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Advance Riko 红外金-平面反射炉
该系列应用广泛,从碳纳米管生产系统到产线生系统;平面金反射炉可用于2~12英寸圆晶的退火炉和产品的烘干炉; 应用:加热大的玻璃基片(太阳能电池,平板显示面板等);高温快速加热半导体圆晶; 仪器特点
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Advance Riko 红外金面反射炉RHL-E series
红外金面反射炉应用于科研和生产当中,RHL-E系列红外金面反射炉具备加热速度快,温度范围宽等特点。 应用:硅、半导体复合材料的快速退火;可用作玻璃和陶瓷材料的退火炉;可用作金属退火炉;复合材料的
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连续退火实验与模拟系统
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Advance Riko 红外金面快速退火炉RHL-P series
红外金面反射炉应用于科研和生产当中,RHL-P系列红外金面反射炉具备加热速度快,温度范围宽等特点。 应用:硅、半导体复合材料的快速退火;可用作玻璃和陶瓷材料的退火炉;可用作金属退火炉;复合材料的
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奥谱天成ATT2203近红外320×256红外焦平面
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奥谱天成ATT2206近红外640×512红外焦平面
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自动相变点测量系统
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Advance Riko 生产热处理炉(产线)
该加热系统依据材料的形状和生产中的目标进行设计,可最大的提高热效率,并保证无对产品无污染; 应用:挤压铝型材的高速预加热;金属线材的连续热处理;金属带材料轧制过程中的连续前后热处理;不同金属材料的连接
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奥谱天成ATT2102短波红外InGaAs焦平面
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Advance Riko 红外金-平面反射炉
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